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30纳米IBMDUV技术使摩尔定律继

2019-04-11 01:58:16 | 来源: 养生

IBM宣布,他们的技术将会使半导体行业制造出更小的集成电路。该公司已经开发出193纳米的深度紫外线光光刻技术DUV(deep-ultraviolet optical lithography),用于“印刷”只有29.9 纳米的电路。通过比较可以发现,目前英特尔全新Core solo和Core Duo处理器采用的是65纳米工艺技术,而AMD仍然停留于90纳米的技术上。

根据IBM公司的罗伯特-阿伦(Robert D. Allen)博士分析,现在必须出现更加先进的技术,以保持莫尔定律之前,整个产业将会有大概7年的喘息时间。罗伯特-阿伦博士说到:“我们的目标是尽我们所能去推动光刻技术发展,使整个产业不需要转移到任何昂贵的技术支出上,直到真正的需要出现为止。事实永远是有力的证据,芯片行业的技术在出现根本上更新之前,大概有7年的喘息时间。”

从短期来看,IBM的新技术突破可以为整个芯片行业节省数十亿美元的研发支出。当然,一旦DUV技术失去竞争力木纹铝窗花
,芯片行业将会重新开始一场新技术研发的竞赛中国交通公司

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